富士电子式塑壳断路器电子样本，EA102C
清晰度或锐度是用来表示不同密度之间的界限和图像中精细细节的清晰性的摄影术语。
近利用空间频率特性进行摄影图像的清晰度表达.
空间频率的概念来源于电子测量系统。在电子方面。
技术--例如，扬声器的特性，是通过绘制我们所说的频率响应曲线来表达的。
输入输出的放大比(称为响应)是计算的。每个不同的声音频率的ED，
频率沿水平轴下线和沿垂直轴的响应。如图16所示，频率响应曲线可以这样获得。
如果低音音的再现性较差，则低频范围内的响应较小，
如果高音不忠实地再现，则在高f req中的响应频率范围较小。
当评估再现声音的质量时，这种频率响应曲线非常有用。
另一方面，在摄影中，频率响应曲线由PL绘制。
根据输入-输出比，将每mm的黑白线的数量
（这称为音频频率类推之后的空间频率），
即再现的IM的响应以可见光或放射线为输入的年龄。
该曲线在摄影中被称为响应函数或调制传递函数。
显影后产生的照相图像由直径几微米的银粒子组成，
其直径不规则地分布。这就是为什么拉多图通常
具有粒状外观的原因当被肉眼观察时。这种外观叫做颗粒度。
它是形成的银颗粒的团块，而不是产生粒状外观的单一晶粒。
颗粒度是主观因素戊印象，而其客观方面称为粒度..
前者是由肉眼主观决定的，使用恒定的样品照明或恒定的场亮度。
测定方法是相对于薄膜的目的而选择的，但恒定样品照明方法适合于X射线薄膜。
另一方面是麦尔。性是物理的，是指光敏乳液的结构，
它是由物理方法客观地决定的。粒度在重复性和客观性上优于grai。
作为衡量银矿分布变化的科学指标。利用Selwyn的傅里叶分析方法确定粒度。
Selwyn粒度G表示为测量孔径的面积a的平方根的乘积和给定平均密度D的标准偏差σD的乘积。
：G=σD√a，但当单个银颗粒的面积大于测量孔径的面积a时，这个公式不会得到G的恒定值。
今天的粒度是单位D的值比Selwyn的常数更经常地表示，
并且被称为RMS粒度(均方根粒度)。
RMS值越小，粒度越好...例如，在图17中，电影A的粒度比电影B更好。
在测定时，必须遵守工业X光胶片的标准，并考虑几何因素
(例如样品到胶片之间的距离)对图像质量的影响。
对X射线或伽马辐射源、盒式磁带、样品和穿透仪的布置进行了分析.
也有必要根据实际情况，对曝光方法进行适当的选择。
待检查样品的材料和形状或部分。
例如，当检查焊接管道时，应在单个射线照相中进行适当的选择方法、
立体放射线照相方法和双曝光(视差)方法。
在工业射线照相中，必须确定曝光，以满足诸如基本图像密度和透度计确定定义等要求。
X射线设备需要制造商规定的预热期，如果是伽马辐射源，
则需要确定其CI值。当使用X射线时，就会有一种无线电摄影术。
利用长曝光时间的低千伏电压可获得高清晰度的APH。
曝光图通常被用作确定曝光条件的指南(例如，千伏，x-ra)。
Y管电流和曝光时间）。通过沿水平轴和曝光（mA·min）铺设试样厚度，
绘制普通曝光图表。或MA·秒。)或千伏
((然而，建议沿着图的纵轴绘制适当的曝光图表，
根据每种情况的曝光条件绘制适当的曝光图表，
因为曝光的结果会有所不同。X射线源的可变特性、聚焦膜距离、样本材料和期望的图像
密度。在图18所示的情况下，由试样的厚度确定千伏，
并在条件下进行曝光(Ma·min)。由千伏决定。
在c中ASE如图19所示，增强屏是相对于试样的厚度和适合所选屏幕类型的千伏曝光而选择的。
当将X光胶卷从交错纸夹上取下时，不应对交错纸施加不必要的压力，
否则会留下划痕和静电痕迹。在X射线胶片上。
在曝光前，当X射线胶片放在工作台上时，也要把交织纸留在X射线胶片上，
因为它保护胶片不受污垢、铁粉、水分、化学物质和OT的影响。
她的下流事。好的，均匀的屏幕和电影之间的接触是非常重要的。
如果他们接触不佳，图像清晰度将受到不利影响。
特别当壳体具有柔性类型时，应小心地在屏幕和薄膜之间获得良好的接触。
当从真空盒取出薄膜时,用通过打开筛网并去除薄膜，以避免筛网和薄膜之间的摩擦。
通过暴露于X射线、伽马射线或光而在X射线胶片上产生的图像在处理之前是不可见的，
但是当浸入特殊处理溶液中时，可见图像出现。
这个专业人士处理步骤称为开发。
当获得期望密度和对比度的图像时，停止显影。
然后将该薄膜浸入停止槽中,停止该动作,f开发商。
停止浴后，薄膜浸入固定槽中，固定槽溶解敏感银盐的不改变部分。
这样处理的电影有一个长久的形象。
S曝光后制作长久图像的TEP统称为处理。
本节将讨论手工处理，自动处理将在第四章后面讨论。
摄影技术的发展对照相质量有着重要的影响。
为了取得佳效果，各种发展条件必须保持不变。
特别重要的因素w我在这里讨论。
富士电子式塑壳断路器电子样本，EA102C
